產(chǎn)品介紹：

LOR
雙層Lift-off專用光刻膠。

高分辨，可用于<0.25μm lift-off 工藝
適合剝離金屬厚度<20nm - >5μm.
undercut 結(jié)構(gòu)可控，溶解速率易于調(diào)節(jié)
在Si, NiFe, GaAs, InP和其它III-V材料上有良好的粘附力.
與g-, h-, i-line, DUV, 193nm和E-beam光刻膠等兼容.
良好的耐熱穩(wěn)定性