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EPMA-8050G 場(chǎng)發(fā)射電子探針信息二維碼

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產(chǎn)品特點(diǎn)

從SEM觀察條件到1μA量級(jí),在各種束流條件下都擁有無(wú)與倫比卓越空間分辨率的尖端場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀,將分析性能發(fā)揮至極致。

詳細(xì)介紹

范圍

· 硬度標(biāo)尺 :4Be~92U

· 發(fā)射源:搭載高亮度肖特基發(fā)射體

· 二次電子圖像分辨率:3nm(加速電壓30kV)

· X射線取出角角度:52.5°,ZD限度減少X射線被吸收

· 分光晶體:全聚焦型

· X射線譜儀:高靈敏度、高分辨率型

優(yōu)點(diǎn)

1 高亮度肖特基發(fā)射體
場(chǎng)發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩(wěn)定大電流。

2 EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來(lái)形成交叉點(diǎn)的。簡(jiǎn)單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時(shí)全部電流條件下設(shè)定最合適的打開(kāi)角度,將電子束壓縮到最細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

3 超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4 高靈敏度X射線譜儀
最多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí),又可減小樣品對(duì)X射線的吸收,實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。

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