鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置，防止蒸發(fā)源被污染。1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
2、設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，ZG烘烤加熱溫度為180℃。
3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。